实验站
1.实验站配置
分析腔：配备六自由度样品架，VG R4000能量分析器，单色化的X光枪，真空度可达7×10-11Torr；
制备腔：配备五自由度样品架，QCM，LEED，质谱和各种高温蒸发源炉用来沉积各种金属，真空度1×10-10Torr；
MBE腔：配备多个低温蒸发源炉用来沉积各种有机分子，真空度可达5×10−10Torr；
超高真空转移腔：结合NEXTorr D200-5吸附泵，无需UPS电源，可长时间维持5´10-10mbar真空度；
手套箱：泄露率 < 0.001vol%h; H2O < 1ppm, O2 < 1ppm。
2.实验站性能
真空度：分析腔7×10-11Torr，制备腔1×10-10Torr，MBE腔5×10−10Torr
温度：90K~1500 K
原位条件：可以原位沉积各种金属及有机分子，原位样品升降温度
3.实验方法
NEXAFS（近边X射线吸收精细结构）
HR-SRPES（高分辨同步辐射光电子能谱）
HR-UPS（高分辨紫外光电子能谱）
HR-XPS（高分辨X射线光电子能谱）
LEED（低能电子衍射）
TPD（程序升温脱附）
4.样品要求
UHV兼容性，样品稳定、不分解、无挥发性
样品无放射性、无剧毒性、无强磁性
导电性好
薄膜/粉末/单晶…
